储氢供氢系统压力守护者--Gems 3160系列压力传感器重磅发布
5月24日消息,日前上海新阳在业绩说明会上表示,公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利,已经形成两个系列试验产品,样品已经进入客户端进行测试。由于测试耗时比较长,近期不会有销售的发生,但是产品总体技术的指标还都比较不错,我们现在对这方面也比较有信心。
此外,公司2021年完成了几款KrF光刻胶产品的研发、验证并实现销售,在手订单中含有国内主流头部芯片制造公司等大小客户,覆盖铝线制程和铜线制程,用于逻辑、模拟等芯片的生产制造。由于客户对于光刻胶的使用都会比较谨慎,目前还都是小批量使用,所以今年的销售额可能不会很大,但明年用量可能会增加较多,后续增长空间较大。
众所周知,光刻胶是芯片关键材料中的重点所在,光刻胶是光刻成像的承载介质,其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量,进而完成掩模图形的复制。
光刻胶一般由聚合物骨架、光致酸产生剂或光敏化合物、溶剂,以及显影保护基团、刻蚀保护基团等其他辅助成分组成。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。
一直以来,光刻胶都是芯片关键材料中的重点所在,由于国内光刻胶领域起步较晚,技术严重落后等原因,导致我国半导体芯片领域的光刻胶需求主要由外资企业来满足,日美厂商占据了约87%的份额,国内光刻胶产品进口比例高达九成。
如今上海新阳的KrF光刻胶产品成功打入国内主流芯片公司,意味着国内光刻胶产业再获得重大突破,实现国产替代指日可待。
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