您的位置:首页 >要闻 >

炬光科技发布Flux H系列可变光斑激光系统 可用于泛半导体制程解决方案

时间:2022-08-04 16:16:04 来源: 炬光科技

8月4日,炬光科技全新发布Flux H系列可变光斑激光系统。该系统输出光斑长度和宽度在2mm到200mm范围内分段连续可调,光斑均匀度>95%,具备闭环温控功能,适用于泛半导体制程解决方案。

炬光科技发布Flux H系列可变光斑激光系统 可用于泛半导体制程解决方案

炬光科技 Flux H 系列可变光斑激光系统

随着激光技术的飞速发展,激光应用领域在广度和深度上不断拓展,各行业对于加工效率以及加工精度也不断提出更高要求,进而对高均匀度以及不同尺寸光斑的需求不断增多。激光光斑从传统的“点”已经逐渐发展为加工效率更高的“线”和“面”。目前高均匀度(>95%),且长宽灵活可变的“线”、“面”光斑已被广泛应用在面板显示、集成电路、锂电池制造、玻璃和光伏等泛半导体制程解决方案。

炬光科技发布Flux H系列可变光斑激光系统 可用于泛半导体制程解决方案

线光斑、面光斑加工方式示意

产品特点及应用

基于4000W功率976nm波长的半导体光源

实现输出光斑长宽方向2~200mm分段连续可调

光斑能量均匀度>95%

红外温度监控和闭环温度控制功能

Flux H系列可变光斑激光系统,使用4000W功率976nm波长的半导体光纤输出激光光源,通过炬光科技自主知识产权的光学设计,从光斑长度和宽度方向分别使用微光学模组进行光斑尺寸调控和光学匀化设计,光斑长度和宽度可实现从2mm到200mm分段连续可调,且光斑能量均匀度>95%。根据特定的应用和工艺需求,不同的光斑尺寸变化范围匹配相应的工作距离,做到产品配置灵活可变;同时基于独特的光学设计,系列产品集成了高响应速度的红外测温系统,能够实时监控工艺区域的温度,并通过闭环温度控制系统进行功率调节和工艺温度恒定控制,以满足不同场景下的应用需求。

Flux H系列可变光斑激光系统,通过不同的激光功率和灵活的光斑尺寸选择,结合集成度极高的加工头设计,适用于材料非接触加热、激光辅助键合、激光巨量焊接、激光干燥、材料表面处理等各类应用。

产品性能参数

炬光科技发布Flux H系列可变光斑激光系统 可用于泛半导体制程解决方案

不同工作距离下的光斑尺寸变化范围

炬光科技发布Flux H系列可变光斑激光系统 可用于泛半导体制程解决方案

炬光科技自成立以来始终专注光子技术基础元器件及相关应用产品的研究和开发,积极拓展创新的应用领域。炬光科技坚持通过技术创新、卓越制造和快速响应,为成为全球可信赖的光子应用解决方案提供商而不断努力。


郑重声明:文章仅代表原作者观点,不代表本站立场;如有侵权、违规,可直接反馈本站,我们将会作修改或删除处理。