激光雷达厂商禾赛科技计划赴美IPO,拟筹资约1.5亿美元
涂胶显影设备能够完成光刻胶涂覆、显影检测等工艺流程,为半导体制造必备机器设备。
涂胶显影设备指在光刻工序中和光刻机配套使用的机器。涂胶显影设备具有烘烤、涂胶和显影等作用,能够直接影响光刻工序中曝光图案的形成,主要应用于芯片及功率器件制造。涂胶显影设备主要包括显影机、涂胶机、喷胶机等。
涂胶机和显影机为涂胶显影设备细分产品,作用于光刻工序的输入和输出环节。光刻为半导体制造工艺重要步骤,耗时占半导体制造过程的40.0%。光刻工序主要包括清洗、涂底、烘烤、曝光、显影、刻蚀、检测等,需利用涂胶显影设备在光刻胶层上刻画出几何图形结构,再通过刻蚀工艺将图形转移到衬底上。涂胶显影设备能够完成光刻胶涂覆、显影检测等工艺流程,为半导体制造必备机器设备。
根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年涂胶显影设备行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示,涂胶显影设备在全球市场需求旺盛,2021年全球涂胶显影设备市场规模达24.6亿元,同比增长23.6%。在本土市场中,受国家政策支持,我国半导体行业景气度不断提升,带动涂胶显影设备市场规模不断扩大。2021年我国涂胶显影设备市场规模达9.4亿元,同比增长21.7%。我国为全球最大涂胶显影设备消费市场,随着下游行业快速发展,我国涂胶显影设备将获得广阔市场空间。
芯片为涂胶显影设备终端市场。近年来,在国际形势影响下,我国芯片制造企业自主研发能力不断提升,带动芯片产量持续增长。据国家统计局数据显示,2021年我国芯片产量达3594.3亿颗,同比增长33.3%。但目前,我国芯片行业仍处于产能供应不足局面。随着芯片制造技术发展成熟,预计未来一段时间,我国胶显影设备应用需求将不断增长。
我国涂胶显影设备行业集中度较高,海外品牌占据市场垄断地位,日本东电电子公司TEL占据我国涂胶显影设备市场近90.0%的份额。我国涂胶显影设备企业数量较少,主要生产企业为沈阳芯源微电子设备股份有限公司,占据市场不到4.0%的份额。
新思界行业分析人士表示,涂胶显影设备功能丰富,在光刻工序中应用广泛,随着我国半导体产业快速发展,涂胶显影设备市场需求将不断增长。我国涂胶显影设备行业起步较晚,但已成为全球最大消费市场。随着本土企业自主研发能力不断提升,我国涂胶显影设备国产化进程将进一步加快。
原文标题:【深度】我国涂胶显影设备市场需求旺盛 未来国产化空间较大
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